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    年度94
    等級EI
    論文名稱Investigation of Material Removal Mechanisms Involved in ICP Etching of InGaN/GaN
    全部作者趙崇禮; 周文成; 石正宜; 馬廣仁; 陳大同
    卷數中正嶺學報=Journal of Chung Cheng Institute of Technology 34(2)，頁185-190
    ISSN(ISBN)0255-6030
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    備註期刊論文
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