淡江大學機械與機電工程學系

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教師

年度89

論文名稱Relieving the Residual Stress on Machined Silicon Wafers- A Comparison Between Rapid Thermal Annealing (RTA) and Chemical Etching Processes

全部作者Chao, C.L.; Ma, K.J.; Chang, Y.; Lin, H.Y

卷數J. of C.C.I.T29(1), pp.63-68

使用語言英文

備註期刊論文