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年度94
等級EI
論文名稱Investigation of Material Removal Mechanisms Involved in ICP Etching of InGaN/GaN
全部作者趙崇禮; 周文成; 石正宜; 馬廣仁; 陳大同
卷數中正嶺學報=Journal of Chung Cheng Institute of Technology 34(2),頁185-190
ISSN(ISBN)0255-6030
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備註期刊論文